PVA -Pinsel für die CMP -Reinigung von Chip Sapphire Wafer

PVA -Pinsel (Knotenrolle)

PVA -Knotenpinsel für Halbleiter -Chip -Saphir -Wafer verwendet Industrie zum Reinigen und Entfernen des Staubes und der Impiritäten nach dem CMP-Prozess hat sie eine sehr starke Fähigkeit zur Absorption von Wasser, weiche und gute Elastizität, chemische Resistenz und antistatische Merkmale, sodass sie in vielen Stadien der Herstellung von Wafer weit verbreitet ist.

Zu den Hauptfunktionen des PVA -Waferbürstenprozesses gehören:

1. Reinigungsschwammbürste: Die PVA -Waferbürste kann Verunreinigungen, Staub und Schadstoffe von der Waferoberfläche entfernen。

2. Entfernen Sie den Maskenrückstand: Während des Lithographieprozesse

3. Rauheit erhöhen: In einigen Prozessen muss die Waferoberfläche eine gewisse Rauheit benötigen, und die PVA -Waferbürste kann die Rauheit der Waferoberfläche durch Bürsten erhöhen

4. Verbesserung der Haftung: Die PVA -Knotenpinsel kann eine kleine konkave und konvexe Struktur auf der Waferoberfläche bilden.

Was ist der Fluss der Herstellung von PVA -Bürsten:

Kunde zur Verfügung stellen Zeichnung ---> Unsere Fabrik bewerten Sie die Zeichnung und das Zitat ---> --- PO ----> Zahlungszahlung ----> Eröffnungsform ----> Startproduktion ----> Versand an den Kunden.